Preparation of Two-Dimensional TaTe 2/WS 2Heterojunction and Its Photoelectric Properties
Due to its excellent physical and chemical properties, two-dimensional material heterostructures have been widely studied. Since the mechanical stripping of graphene, various methods for preparing two-dimensional heterostructures have emerged one after another. Here, we introduce a non-polluting, fast and convenient semi-wet PDMS assisted rapid transfer of polyvinylpyrrolidone (PVP) and polyvinyl alcohol (PVA) to construct TaTe 2/WS 2heterojunction. Optical microscopy, Raman spectroscopy, photoluminescence spectroscopy and rotation rotation pump indicate that the energy transfer between WS 2and TaTe 2is the main one. More importantly, the response rate and ultra-high detection rate of the photodetector based on heterogeneous structure at 415 nm incident light are 9 A/W, 1.73 × 10 12Jones, respectively. Our study may provide a new way for the rapid preparation of heterojunction, due to the high detection rate of TaTe 2/WS 2heterojunction photodetector, which proves its potential in the field of optoelectronics.
Two-Dimensional Material
二维过渡金属硫属化物(Transition Metal Dichalcogenides)因其具有良好的物理化学特性而得到广泛研究。其层与层之间由较弱的范德华力相互作用,而层内则由较强的化学键连接,使得各层能够容易地与其他二维材料堆叠,形成异质结,为材料和器件的制备提供了更多可能性。WS2作为TMDCs典型的一员因其拥有很多独特的性质受到广泛研究
使用化学气相沉积法制备单层WS2。在CVD过程中,WS2的晶体生长受到核心形成和晶体生长动力学的控制。开始时,WS2的原子在衬底上形成核心。随着更多原子在这些核心上沉积,晶体开始外延生长。由于晶体生长的各向异性,这些原子倾向于沿着特定的晶向堆积,形成锐角的边缘。我们将硫粉与WO2.9粉末都放入石英管内后,封闭石英管,连接除气瓶。在加热之前先对石英管内用纯氩气进行洗气5 min,流量设为200 sccm。然后设定加热系数,加热顺序为38分钟升到1040摄氏度,保温五分钟。洗气完毕后重新设置气流量(120 sccm),开始加热。因为本实验加热温区只有一个且覆盖面积较小,因此为了使硫粉与WO2.9同时升华并发生反应需要在保温五分钟时间内每隔1分钟将加热温区靠近硫粉位置5 cm,如
本文块体TaTe2是实验组其他成员用CTV法生长得到。用胶带通过机械剥离法得到薄层TaTe2后用PDMS机械转移到SiO2/Si上进行显微镜观测,如
为获得性能优良的二维异质结,选择一种对样品损伤最小甚至无损的转移方法至关重要。本章探究了一种PDMS与水溶性聚合物薄膜结合的方法,成功将机械剥离的物品完整并精准搭建异质结。具体实验步骤及光学照片如
利用WITec Alpha300RA共聚焦拉曼系统测试。激光光源为532 nm红宝石固体激光器,在3 uw激光功率下得到拉曼光谱与光致发光光谱。
为了弄清TaTe2/WS2异质结中具体转移机制,我们进行了旋光分辨TA测试。提前在光谱仪内部分别在泵浦光路斩波器后和在探测光路YAG晶体后添加一个偏振器和一个半波片来过滤探测光,目的是选择允许特定偏振方向的光通过,然后在倒置显微镜底部放置一块四分之一波片,泵浦光和探头光一起通过四分之一波片,具体步骤分为pump光路和probe光路两部分。在pump光路,首先用板子挡住probe光防止干扰,转动pump光路半波片角度,然后在四分之一波片后再安装一个偏振器(记为二号偏振器)和功率计,旋转二号偏振器角度并观察功率计读书变化,如果最小功率/最大功率小于80%则需重新调整pump光路偏振器角度直到找到最小功率/最大功率大于80%为止。probe光路第一束光与pump光路相同,寻找第二束光只需在第一步的基础上在probe光路半波片角度增加或者减少45˚即可。找寻完毕后通过转动二号偏振器角度,将两束光同时存在(泵浦光的偏振方向与探测光的偏振方向相同)记作SCP;将只有一束光存在(泵浦光的偏振方向与探测光的偏振方向垂直)记作OCP。在进行常规泵浦测试时,只需将四分之一波片抽离光路即可。
单层WS2SCP与OCP条件下的等高线图如
在传统TA谱中规定激子总群为(Pop = TSCP+ TOCP),偏振TA谱中规定谷极化度为(Pol = (TSCP− TOCP)/(TSCP+ TOCP))。我们提取了单层WS2谷极化度(Pol),TaTe2/WS2谷极化度(Pol),TaTe2/WS2激子总群(Pop),如下
其中PolWS2(230 fs)与PolTaTe2/WS2(226 fs)大致相等,并且PolTaTe2/WS2(226 fs)大于Pole-WS2(80 fs)。这表明WS2与TaTe2之间发生的过程主要为能量转移,电子和空穴同时从WS2转移到TaTe2中而湮灭,从而导致WS2电子–空穴对的局部浓度减弱,发生PL猝灭现象。PolWS2(230 fs)稍微小于PolTaTe2/WS2(226 fs)应该归因于转移的空穴数量稍微多余激发电子的数量。在实验过程中,我们发现PopTaTe2/WS2的寿命为16 ps,与WS2激子的发光寿命处于同一量级,进一步确认了WS2与TaTe2之间发生的过程主要为能量转移。
在成功制备TaTe2/WS2异质结并对其进行拉曼,PL表征和泵浦–探测分析后。我们对TaTe2/WS2异质结进行光电性能相关的测试来探究其应用潜力。搭建电极后的光学照片如下
随后,用415 nm、530 nm激光对TaTe2/WS2异质结分别测试绘制其光电流、光响应度(Photoresponsivity)和探测率(Detectivity, D*)。如下
相比于其他异质结的光电性能,本文生长的样品所搭建的异质结无论是从尺寸还是响应度以及探测率都具有明显的优势如
我们首先使用CVD法生长单层WS2,并通过拉曼和光致发光进行初步表征,在能稳定生长出高质量
异质结 |
制备方法 |
样品尺寸 |
响应度 |
探测率 |
TaTe2/WS2本文 |
CVD |
150 µm |
9 A/W |
1.73 × 1012Jones |
In2Se3/MoS2
|
CVD |
50 µm |
4.47 A/W |
1.07 × 109Jones |
WS2/Si
|
转移 |
5.7 A/W |
||
GaSe/MoSe2
|
CVD |
30 µm |
5.5 mA/W |
|
WSe2/SnS2
|
CVD |
456 µm |
108.7 mA/W |
4.71 × 1010Jones |
MoS2/BP
|
转移 |
50 µm |
22.3 A/W |
3.1 × 1011Jones |
GaN/Ga2O3
|
激光辐照 |
2 mm |
110.22 mW |
5.56 × 1011Jones |
CuGaO/ZnSO
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磁控溅射法 |
100 nm |
3.78 mA/W |
1.16 × 1010Jones |
SnS2/Ag2S |
CVD |
150 nm |
4.52 A/W |
3.53 × 1011Jones |
大面积单层WS2后,通过机械剥离法制备薄层TaTe2,其次,在无法直接将薄层TaTe2直接转移到WS2后,本文探索了一种新的转移方法,利用聚乙烯吡咯烷酮(PVP),聚乙烯醇(PVA),PDMS,将三者结合,能够大大提高TaTe2的转移成功率,且转移后TaTe2无破损。对异质结进行拉曼,光致发光测试后,由于异质结PL强度的猝灭,表明存在电荷转移或者能量转移行为,因此需要进一步探究其转移机理。最后,通过泵浦测试了解异质结间的转移行为:通过对比WS2激子寿命,WS2电子寿命,TaTe2/WS2异质结激子寿命后发现,如果异质结主要发生的为能量转移过程。由于WS2被激发后发生能量转移(激子转移)到TaTe2中造成WS2电子–空穴对的局部浓度减弱,因此发生PL猝灭现象。在弄清楚TaTe2/WS2异质结转移机制后,我们对TaTe2/WS2异质结搭建电极并进行了光电方面的测试。发现其具有极高的光探测率(1.73 × 1012Jones),但是其开关比较差在秒级别,以及较弱的光电流,究其原因是在空气中机械剥离TaTe2样品以及搭建异质结时会造成TaTe2样品氧化成绝缘体。